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  • 14
    2025-08
    某芯片封裝廠為提升功率器件的擊穿電壓性能,在離子注入工序中引入大口徑離子源弧光室。該設備通過擴大等離子體生成區(qū)域,實現(xiàn)單次注入面積提升 30%,同時保持離子束能量穩(wěn)定,不僅縮短了加工時間,還使器件擊穿電壓平均值提高 15%,滿足了高端功率半導體的性能要求。
  • 14
    2025-08
    表面處理工藝同樣關(guān)鍵,通過精密拋光形成的光滑表面能減少配件間的摩擦系數(shù),延長蒸發(fā)臺配件的使用壽命;而粗糙的表面則容易積累雜質(zhì),增加設備維護頻率。
  • 08
    2025-08
    注入機離子源燈絲常見的故障之一是斷裂。這通常與燈絲材質(zhì)疲勞、安裝時受力不均或使用時間過長有關(guān)。排查時,需先切斷設備電源,仔細觀察燈絲外觀是否有明顯斷裂痕跡,同時檢查燈絲固定裝置是否松動,避免因振動導致燈絲受力異常。
  • 08
    2025-08
    材料特性是影響注入機離子源配件性能的關(guān)鍵因素之一。不同材質(zhì)的耐高溫、耐磨損及導電性能存在差異,若材料選擇不當,在長期高強度運行中易出現(xiàn)損耗,進而影響配件的使用壽命和性能穩(wěn)定性。
  • 08
    2025-08
    當前的半導體設備配件質(zhì)量檢測標準涵蓋多個方面。從材質(zhì)來看,需檢測配件所用材料的成分、硬度及耐腐蝕性等,確保其符合設備長期運行的要求;在精度方面,對配件的尺寸公差、表面粗糙度等指標有嚴格規(guī)定,以保障配件與設備的準確適配。
  • 08
    2025-08
    在芯片制造的多個環(huán)節(jié),丹東半導體設備展現(xiàn)出良好的適配性。從晶圓處理到封裝測試,設備的協(xié)同運作能力得到提升,減少了因設備銜接問題導致的時間損耗。
  • 08
    2025-08
    關(guān)于丹東離子源配件的選型,常有用戶疑問如何匹配不同型號的離子源設備。實際上,需結(jié)合設備的工作參數(shù)(如功率、離子束強度)及應用場景(如半導體摻雜、材料改性)綜合判斷,建議參考設備廠商提供的配件兼容性列表。
  • 05
    2025-08
    在物料蒸發(fā)階段,蒸發(fā)臺坩堝的耐高溫特性與熱傳導效率發(fā)揮著關(guān)鍵作用。通過加熱元件對坩堝的均勻加熱,內(nèi)部物料可在設定溫度下逐步汽化,形成穩(wěn)定的蒸汽流。
  • 05
    2025-08
    結(jié)構(gòu)完整性檢查是蒸發(fā)臺行星鍋日常維護的首要環(huán)節(jié)。需重點查看鍋體與傳動部件的連接是否緊密,螺栓、軸承等緊固件有無松動或磨損跡象,行星攪拌系統(tǒng)的運轉(zhuǎn)是否順暢,有無異??D或異響。
  • 05
    2025-08
    在離子注入工藝中,離子源弧光室的性能直接關(guān)系到離子束的強度與均勻性。通過合理控制弧光室內(nèi)的氣壓、溫度及電磁場參數(shù),可實現(xiàn)對離子種類、能量的準確調(diào)控,滿足不同半導體器件的摻雜需求。