精密鍍膜需求下蒸發(fā)臺(tái)行星鍋的定制化方案

蒸發(fā)臺(tái)行星鍋是精密鍍膜工藝中承載基片、實(shí)現(xiàn)多工位均勻轉(zhuǎn)動(dòng)的核心部件，其性能直接影響鍍膜層的厚度均勻性、表面質(zhì)量及工藝重復(fù)性。在半導(dǎo)體芯片、光學(xué)鏡片等精密鍍膜場(chǎng)景中，基片尺寸從幾毫米到幾十厘米不等，工藝溫度跨度覆蓋常溫至1200℃以上，且部分場(chǎng)景需兼容腐蝕性工藝氣體，通用規(guī)格的蒸發(fā)臺(tái)行星鍋往往難以同時(shí)滿足這些差異化需求，因此針對(duì)性的定制化方案成為保障精密鍍膜質(zhì)量的關(guān)鍵。

材質(zhì)定制是蒸發(fā)臺(tái)行星鍋定制化的基礎(chǔ)環(huán)節(jié)。需根據(jù)工藝溫度與環(huán)境特性選擇適配材質(zhì)：若工藝溫度超過(guò)800℃，可選用石英或鉬合金材質(zhì)，這類材質(zhì)具備穩(wěn)定的高溫抗變形能力，避免高溫下部件形變影響基片定位；若工藝中涉及氟化氫、氯氣等腐蝕性氣體，則優(yōu)先采用鈦合金材質(zhì)，減少腐蝕損耗以延長(zhǎng)部件使用壽命，同時(shí)避免材質(zhì)雜質(zhì)污染鍍膜層。

結(jié)構(gòu)與運(yùn)動(dòng)參數(shù)定制需匹配基片特性與鍍膜要求。針對(duì)小尺寸芯片基片，可設(shè)計(jì)多組小型承載槽，提升單次鍍膜產(chǎn)能；針對(duì)大尺寸光學(xué)鏡片，需優(yōu)化行星鍋的支撐結(jié)構(gòu)，增加穩(wěn)定支架避免轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)基片晃動(dòng)；同時(shí)，根據(jù)鍍膜速率調(diào)整轉(zhuǎn)速范圍，精密鍍膜場(chǎng)景下通常將轉(zhuǎn)速定制為5-30轉(zhuǎn)/分鐘，通過(guò)勻速轉(zhuǎn)動(dòng)確保鍍膜材料均勻沉積在基片表面。

適配性定制需銜接蒸發(fā)臺(tái)整機(jī)參數(shù)。需根據(jù)蒸發(fā)臺(tái)腔體的內(nèi)徑、真空系統(tǒng)接口位置，調(diào)整蒸發(fā)臺(tái)行星鍋的外徑與安裝支架尺寸；若蒸發(fā)臺(tái)采用伺服驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，可定制對(duì)應(yīng)的傳動(dòng)接口與信號(hào)適配模塊，實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)速精準(zhǔn)調(diào)控，避免因適配偏差導(dǎo)致的運(yùn)行故障或參數(shù)誤差。通過(guò)多維度定制，蒸發(fā)臺(tái)行星鍋能更好契合精密鍍膜的差異化需求，為工藝穩(wěn)定性與產(chǎn)品良率提供支撐。